光学ガラス/Optical Glass

半導体産業では様々な光学ガラスが使われております。又、光学ガラスは硬質脆性材料ですので、加工面で結晶材料と類似した部分が沢山ございます。同人産業では、半導体産業や光学産業で使用される各種光学ガラスを幅広く取り扱っております。これらの光学ガラス製品はユーザー様のご要望に合わせて、切断、研削、研磨、ダイシング、コーティング、穴あけ、MC加工、火加工などの精密加工も合わせてご提供いたします。
光学ガラス種類
合成石英、溶融石英、テンパックス、パイレックス、D263、BK7、イーグルXG、ケミカル強化ガラス、導電性ガラス(FTO、ITO)、他
石英/Quartz
石英基板

同人産業では高品質かつ低価格な各種ガラス基板を材料から研磨加工まで提供させていただいております。特に、石英基板を中心に色々販売実績を積み重ねております。加工が困難な100μm以下の石英薄片基板や、φ1mm~Φ500mmまで、丸いウェハーや四角い基板まで、ほぼあらゆる石英基板をご提供可能でございます。ガラス素材に関しましても、合成石英材、溶融石英材、又は日本製、海外製いずれもご対応可能でございます。
石英ガラスは、高純度、耐熱性、光の透過性、耐薬品性、化学的安定性、均一性、電気絶縁性など、多くの特性を持っています。特に半導体製造装置では、熱処理成膜やエッチング、露光、ウェーハ洗浄などの工程で、高純度の石英ガラスを必要としており、半導体製造工程に欠かせない素材となっています。
石英基板の基本製造プロセス石英材の調達⇒切断研削成形、OFやNotch加工、面取り⇒研磨、洗浄、検査⇒梱包出荷
石英基板の各サイズ(例)項目 | 詳細 | ||
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サイズ | Φ1mm~Φ500mm、Φ2"、Φ3"、Φ4"、Φ6"、Φ8"、Φ12"、など □10×10、15×15、20×20、50×50、100×100、150×150 mm、など |
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厚み | 0.1mm、0.2mm、0.5mm、0.725mm、0.775mm、1.0mm、2.0mm、3.0mm、5.0mm | ||
仕上げ | 両面研磨、片面研磨、両面研削(ラップド) ※酸化セリウム研磨 |
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実測データ | 厚みなど実測データ提供可 | ||
製造 | 日本製、中国製 |
合成石英フォットマスク基板

回路パターンを形成した原版をフォトマスクと呼びます。石英など光学ガラス基板上にクロムなどの光を通さない素材でパターンを形成したもので、露光装置によってウェハ上に設計パターンを転写します。
同人産業では主に、合成石英フォットマスク基板を「研削や研磨仕上げ」にて御提供いたします。
サイズ | 板厚 | 0.06" | 0.09" | 0.12" | 0.15" | 0.18" | 0.20" | 0.25" |
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辺長 | mm | 1.52 | 2.3 | 3.05 | 3.8 | 4.6 | 5 | 6.35 |
4" | 101.2 | 4006 | 4009 | ー | ー | ー | ー | ー |
5" | 126.6 | 5006 | 5009 | ー | ー | 5018 | ー | ー |
6" | 152 | ー | 6009 | 6012 | ー | ー | ー | 6025 |
7" | 177.4 | ー | ー | 7012 | 7015 | ー | ー | ー |
9" | 228.6 | ー | ー | 9012 | ー | ー | 9020 | 9025 |

加工事例
- 研削研磨:フォットマスク、石英基板、石英窓、各種ガラス平面研磨加工
- MC加工:特殊形状マシニング機械加工
- ガラス基板加工:各種サイズ、切断 ⇒ 面取り ⇒ ラッピング ⇒ 研磨 ⇒ 洗浄 ⇒ 検査
- レンズ加工:各種球面・非球面レンズ、平面レンズ、覗き窓
- コーティング加工:AR反射防止膜、反射膜、他
- 火加工:石英ボード、石英槽、石英管、その他特殊形状
品名:石英基板/Wafer
直径:Φ3~150mm
厚み:指定可
表面仕上げ:光学研磨
S/D値:20/10品名:光学ガラス窓/Windows
直径:Φ4~300mm
厚み:0.2~30mm、指定可能
表面仕上げ:光学研磨
S/D値:20/10品名:光学レンズ/Lens
直径:Φ3~200mm
S/D値:20/10品名:プリズム/Prism
サイズ:5~100mm
S/D値:20/10品名:ミラー/Mirror
サイズ:6~100mm
タイプ:UV強化、レーザー、ブロードバンド、メタル、Hot&Coldミラー、絶縁、平面&凹凸&湾曲、他品名:ガラス球レンズ/Ball Lens
直径:Φ0.8~25mm
真球度:1μm以下
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